中国科学院光电所超分辨光刻装备项目组经过近7年艰苦攻关，突破了多项关键技术，完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，并形成一条全新的纳米光学光刻工艺路线，具有完全自主知识产权。

光刻机是集成电路制造业的核心设备，也是中国芯片制造的主要短板之一。

中国官方媒体报道，中科院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”前天通过验收，这是世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。业内人士说，这个项目是中国芯片制造技术的一个重大突破。

光刻机是集成电路制造业的核心设备，也是中国芯片制造的主要短板之一。一般来说，光刻分辨力越高，加工的芯片集成度也就越高。但传统光刻技术由于受到光学衍射效应影响，分辨力进一步提高受到很大的限制。

打破国外领域垄断

中国军网、《科技日报》等媒体星期五报道，中科院该项目组完成了国际首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，采用365纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。

报道说，超分辨光刻装备项目打破国外在高端光刻装备领域的垄断，为纳米光学加工提供了全新的解决途径，也为新一代信息技术、新材料、生物医疗等先进战略技术领域，基础前沿和国防安全提供了核心技术保障。

中国的光刻机研制水平一直比较落后。荷兰阿斯麦公司（ASML）是全球唯一的高端光刻机生产商，但该公司产品不仅价格昂贵，而且产量很低，加上中国受到“敏感技术”进口限制，中国公司很难买到高端光刻机，成为中国芯片制造水平提升的瓶颈之一。

今年以来，美国在芯片供应上先后制裁中兴通讯、福建晋华等中国公司，让中国舆论表达“芯之痛”，中国高层也多次强调在芯片制造等高技术领域，不能总是“受制于人”。

防高端科技被窃

美拟审查华留学生 

中美摩擦频频！美国声称中国窃取知识产权，留学生的间谍行为日增，正考虑展开新一轮背景审查以及实施其他限制。

这些限制包括检查学生的手机通话记录，社交平台的个人帐户等，以知悉他们在美国的真正意图。

美国国务院今年6月已下令，就读机械人技术、航空和高科技制造等专业的中国留学生签证期，由5年缩短到1年。美国官员说，目的是要降低学生刺探与窃取涉及国家安全领域知识产权的风险。不过美国两个高等教育协会组织曾发表声明表示反对。

通讯社近日报道，美国官员与国会消息人士说，由于政府对间谍行为感到担忧，有意对中国留学生展开新审查。美国执法机关将向学术界官员提供培训，教导他们如何侦测出刺探与网络窃取行为。

美国学界也对中国的“渗透”颇为忧心。加州史丹福大学的胡佛研究所星期四发表《中国影响力及美国利益：提高建设性警觉》报告，提到中国以大规模活动，试图影响美国联邦及地方政府、企业、智库、学生和媒体。