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与ASML较劲 佳能交付首台纳米压印芯片制造机

(东京1日讯)日本企业佳能(Canon)已将第一台纳米压印曝光机运送到美国德州电子研究所(Texas Institute for Electronics ),供其研发实验室使用,此项压印曝光技术不需要光源,有别于荷兰芯片制造设备商艾斯摩尔(ASML)生产的极紫外线曝光机(EUV) 。

去年10月,佳能透露,正在将使用纳米压印曝光技术的半导体制造系统商业化,其第一个实施方案将是一个房间大小的设备,名称为FPA-1200NZ2C。

现在,佳能已将其中一个纳米压印曝光机运送给德州电子研究所,这是一个成立于2021年的半导体联盟,得到德州学奥斯汀分校,以及众多芯片公司和其他公共部门和学术机构的支持。该机器将用作先进半导体研发和原型生产的一部分。

据佳能称,与使用更传统光学方法的竞争对手相比,其纳米压印制程更便宜,功耗也更少,它不需要光源,而在ASML的最新设备中,光源涉及难以使用的极紫外线波长。

新闻来源:自由时报

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又被美国逼! ASML将不再维修中国DUV

(华盛顿30日讯)美国持续加码对中国芯片禁令,美国财经媒体引述知情人士说法指出,荷兰政府将禁止ASML为其在中国的特定DUV提供维修服务,不只冲击ASML在中国的营收表现,更将打击中国芯片业发展,中芯明年恐怕无法替华为生产7纳米与5纳米芯片。

知情人士表示,ASML在中国提供服务和设备零组件的某些许可,即将在今年底到期,包括深紫外光曝光设备(DUV),在美国施压下,荷兰政府很可能不会续发许可,撤销这种维修支援,一些设备恐怕到明年就无法使用。

报道称,如果中国欠缺ASML的DUV设备,华为及其合作伙伴中芯,将越来越难以在现有能力上取得突破,明年恐无法生产7纳米与5纳米制程芯片。

荷兰政府禁止ASML出售三款型号光刻机产品给中国,型号包括Twinscan NXT:2000i、2050i与2100i型DUV,这些设备可以被用来生产7纳米及5纳米制程芯片,但相关设备有些已装置在中芯的晶圆厂中,华为去年推出5G手机搭载7纳米应用处理器,让市场震撼。

报道称,如果上述这些设备没有ASML的维修服务并更换新元件,恐怕到2025年就无法运作,将严重影响中芯与华为的先进半导体生产能力。

中国积极发展芯片业让美国担忧,《日经新闻》报道,中国芯片业实力持续进步,目前只差台积电3年水准。而美国出口管制的目标,是想让中国在芯片竞赛中落后长达10年的时间。

新闻来源:中时新闻网

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