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研发出国产DUV光刻机 中国可产8纳米及以下芯片

(北京15日讯)中国工信部近日宣布,研发出首台国产深紫外光光刻机(DUV),可生产8纳米及以下芯片,目前正在推广应用。

工业和信息化部官网9日公布“首台重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)”的通知,下发地方要求加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同。

工信部称,重大技术装备是国之重器,事关综合国力和国家安全。“中国首台重大技术装备”是指国内实现重大技术突破、拥有智慧财产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品,包括整机设备、核心系统和关键零部件等。

这份目录显示,在积体电路生产装备,其中一项是“氟化氩光刻机”(DUV光刻机),核心技术指标是“晶圆直径300mm,照明波长248nm,分辨率≦65nm,套刻≦8nm”。这也代表,这台国产DUV可生产8纳米及以下芯片。至于国产DUV光刻机的良率则未见提及。

据中国科技自媒体今日转发消息后称,中国自己的DUV光刻机终于来了,虽然与荷兰ASML光刻机存在代差,至少己填补空白,可控可用,期待之后能研发出更先进的极紫外光光刻机(EUV)。

美国5日才宣布收紧制造先进半导体设备所需机器的出口管制,荷兰政府隔天跟进,宣布扩大限制半导体制造设备出口。

中国若实现国产8纳米及以下制程DUV,未来绝大多数芯片制造,将不用受制于ASML。不过,截至目前,尚无中国官方与厂商宣布这项消息。

新闻来源:星岛网

 

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ASML业绩暴雷冲击市场 全球芯片股市值蒸发1.8兆

(纽约16日讯)在光刻机巨头阿斯麦(ASML)令人失望的业绩展望引发全球芯片股下跌后,行业投资者面临着新的考验。 

费城半导体指数加上亚洲半导体巨头的市值损失,总计超过了4200亿美元(约1.8兆令吉)。

总部位于荷兰的阿斯麦发布预警,给芯片股从夏季抛售中强劲反弹的势头泼了一盆冷水。

这家全球最先进的芯片制造设备供应商,因AI以外领域低迷而下调业绩展望,其股价周二在欧洲市场创下1998年以来最大跌幅。

阿斯麦公布第三季度订单,仅达分析师预期的一半左右,并将2025年净销售额指引区间的上限,从400亿欧元(约1872亿令吉)下调至350亿欧元(约1638亿令吉)。

花旗分析师阿蒂夫·马利克在一份报告中写道,鉴于非AI应用增长放缓及英特尔削减开支等因素,阿斯麦2025年业绩展望偏弱在预料之中,“但下调的幅度令人意外”。 

周三阿斯麦在亚洲市场的同业纷纷下跌,东京电子一度重挫10%。顶级晶圆代工企业台积电一度跌3.3%。

尽管市场反应强烈,但一些投资者认为阿斯麦的困境,可能是这家荷兰公司独有的。

AI需求仍然旺盛,中国政府的经济刺激措施也被视为有助于更广泛的复苏。

Fibonacci资产管理全球公司总执行长郑仁允(译音)称:“我们认为芯片制造商正在战略性地减少对阿斯麦的订单,这对后者的盈利产生了负面影响。”

他表示,芯片制造商这么做的动机,究竟是削减成本还是其他战略原因不得而知。他还指出,中国的刺激措施可能会推动芯片需求复苏。

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