副刊

Canon EOS M5
首部具备EVF电子观景器

日本相机大厂佳能Canon新近推出的无反光镜相机EOS M5拥有小巧机身和直逼单眼相机的实力,套用佳能行销(马)私人有限公司总执行长许志远的说法,除了可做为玩单眼机者的后备相机,也适合首次入手相机的玩家。

此机最大卖点是首次在EOS M系列相机中导入2420万个相位感测器及双像素CMOS自动对焦技术Dual Pixel CMOS AF,并使用最新的影像处理器DIGIC 7,ISO感光度高达2万5600,实现更自然的对比度校正,为背光场景带来自然的明暗层次感,而拍摄照片或视频的自动对焦能力也提升,追焦每秒可拍摄7张,对焦锁定每秒可拍摄9张,并可根据被拍摄目标的运动和速度来进行“预测自动对焦”。



直接在荧幕进行对焦

此外,这也是佳能第一台拥有EVF电子观景器的无反光镜相机,而它的3.2寸可翻转荧幕支援触控及拖曳自动对焦,意即玩家可直接以手指在荧幕进行对焦。 

M5也具备把RAW档转换成JPG档的能力,此外在拍摄视频方面,EOS M5搭载了五轴电子防手震规格,强化边走力拍的画面稳定度。它也具备蓝牙、NFC、WiFi等传输规格。(机身4699令吉、机身与15-45mm镜头组为5199令吉、机身与18-150mm镜头组为6399令吉) 

佳能行销(马)私人有限公司影像及资讯产品部副总监孔祥隆(左)及总执行长许志远在新迁入的办公室内共同为EOS M5推介。



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国际财经

与ASML较劲 佳能交付首台纳米压印芯片制造机

(东京1日讯)日本企业佳能(Canon)已将第一台纳米压印曝光机运送到美国德州电子研究所(Texas Institute for Electronics ),供其研发实验室使用,此项压印曝光技术不需要光源,有别于荷兰芯片制造设备商艾斯摩尔(ASML)生产的极紫外线曝光机(EUV) 。

去年10月,佳能透露,正在将使用纳米压印曝光技术的半导体制造系统商业化,其第一个实施方案将是一个房间大小的设备,名称为FPA-1200NZ2C。

现在,佳能已将其中一个纳米压印曝光机运送给德州电子研究所,这是一个成立于2021年的半导体联盟,得到德州学奥斯汀分校,以及众多芯片公司和其他公共部门和学术机构的支持。该机器将用作先进半导体研发和原型生产的一部分。

据佳能称,与使用更传统光学方法的竞争对手相比,其纳米压印制程更便宜,功耗也更少,它不需要光源,而在ASML的最新设备中,光源涉及难以使用的极紫外线波长。

新闻来源:自由时报

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